euv光刻机原理
【euv光刻机原理】euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近 ， 复制掩模板上的图案；直写式光刻是将光束聚焦为一点 ， 通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工 。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点 ， 是集成电路主流光刻技术 。
光刻机（MaskAligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备 。其分为两种 ， 一种是模板与图样大小一致的contactaligner ， 曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper ， 获得比模板更小的曝光图样 。高端光刻机被称为“现代光学工业之花” ， 制造难度很大 ， 全世界只有少数几家公司能制造 。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种 ， 分辨率通常在十几纳米至几微米之间 ， 高端光刻机号称世界上最精密的仪器 ， 世界上已有7000万美金的光刻机 。高端光刻机堪称现代光学工业之花 ， 其制造难度之大 ， 全世界只有少数几家公司能够制造 。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国） ， 日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主 。
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