电镀金属Ga和Ga合金的溶液配方

2021-12-22

配方简介电镀金属Ga和Ga合金的溶液配方具有良好的覆盖能力和分散能力，使用寿命长制备的Ga薄膜光亮、均匀、无缺陷，金属薄膜的厚度和成分可通2电合全液29过控制沉积条件任意改变，适合于制备 Cuingase2、GaN、GaAs等相关的半导体薄膜；且制作方法简单实用、设备投资小、成本低，适合于大规模产业化应用。
应用领域本配方主要应用于电镀金属Ga和Ga合金。
配方详情
原料配比（质量份）

三氯化镓：0.1
三氯化铟：0.08
丙磺酸：2.2
氯化铜：0.08
氢氧化锂：1.8
酒石酸钠:0.2
甲基碱酸:2.2
氨基磺酸:2
葡萄糖:8g
柠檬酸钠:30g
葡萄耱酸钠:15g
三乙醇胺:0.2~3.8g
水:加至1L

制作方法

将金属盐、络合剂和有机酸分别溶解在水中配制成饱和浓度的溶液备用；
在水中依次加入金属盐溶液、有机酸溶液、络合剂溶液和有机添加剂并搅拌均匀；
用碱性溶液调节pH值

注意事项本配方各组分物质的量（mol）配比范围为：金属盐0.05~0.5,导电盐1~4,络合剂0.1~0.8,有机酸0.5有机添加剂4~20,水加至1L 。
【电镀金属Ga和Ga合金的溶液配方】

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